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Stolmár & Partner beim deutsch-chinesischen Symposium

von Stolmár & Partner (Kommentare: 0)

Am 26. März fand in München das deutsch-chinesische Symposium zum Thema Gebrauchsmuster statt. Anlässlich des 40-jährigen Jubiläums der Zusammenarbeit zwischen DPMA und CNIPA (vormals SIPO) diskutierten Vertreter beider Ämter und Patentanwaltschaften über Unterschiede, Herausforderungen und Zukunftsstrategien für die Entwicklung des „kleinen Schutzrechts“. 

12 000 Gebrauchsanmusteranmeldungen beim DPMA stehen rund rund 2 Millionen Anmeldungen beim CNIPA gegenüber. Ob diese Unterschiede in der Förderungspolitik der chinesischen Regierung begründet liegen und was Deutschland tun kann, um die stetig sinkenden Anmeldezahlen wiederzubeleben, darüber wurde nachmittags in Workshops intensiv diskutiert.

Paul Alexander Wacker, Of Counsel von Stolmár & Partner,  gab dabei mit seinem Impulsvortrag „Quo Vadis? Perspektiven für die Zukunft des Gebrauchsmusters“ Denkanstöße, wie das deutsche System an die Bedürfnisse von StartUps und Einzelerfindern angepasst werden könnte.

Besonders erfreulich an der Veranstaltung war der offene Austausch zwischen chinesischen und deutschen Fachleuten. So wurde von Seiten der deutschen Industrie zwar durchaus Kritik an der schieren Masse an chinesischen Gebrauchsmuster geübt. Andererseits waren sich alle Teilnehmer einig, dass die Maßnahmen der chinesischen Regierung, Bewusstsein für IP in der breiten Bevölkerung zu schaffen, eindeutig Erfolg zeigen.

Neben Herrn Wacker nahm auch Dr. Denise Nestle-Nguyen für Stolmár & Partner an der Veranstaltung teil. Dr. Nestle-Nguyen spricht aufgrund mehrerer längerer Aufenthalte in China fließend Mandarin und betreut bei Stolmár & Partner das China-Desk.

posium

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